產(chǎn)品簡介
微波等離子體清洗機是一種利用微波能量產(chǎn)生等離子體來對物體表面進行清洗的先進設備，可去除有機物、光刻膠、無機物、氧化層等多種污染物，可對硅晶圓、金PAD、鋁PAD等表面進行清洗，該清洗機具有操作方便、效率高、表面干凈、無劃傷、有利于確保產(chǎn)品質(zhì)量等優(yōu)點。清洗過程中不產(chǎn)生空氣污染,也沒有廢液、廢渣產(chǎn)生,是真正的節(jié)約能源,降低成本。
產(chǎn)品參數(shù)
| 型號 | NE-MW100 |
| 等離子發(fā)生器 | 固態(tài)功率源1000W連續(xù)可調(diào) |
| 頻率 | 2.45GHz |
| 腔體材質(zhì) | AL6061，軍工級密封 |
| 載物臺尺寸 | Φ270mm |
| 腔體容積 | 480(W)*505(D)*410(H)mm; 100L |
| 晶圓托盤工作臺 | 可水平旋轉(zhuǎn)，連續(xù)旋轉(zhuǎn)、90°間歇旋轉(zhuǎn)和180°間歇旋轉(zhuǎn) |
| 處理能力 | 單次最大處理6片（8/10英寸硅晶圓） |
| 泄露率 | ≤5e-10 Pa·m3/s |
| 氣體流量控制器 | MFC氣體質(zhì)量流量計/500SCCM/氣路 |
| 氣路數(shù)量 | 配置2路工藝氣路，可支持氧氣，氬氣，氮氣，氫氣、氬氫混合氣體等 |
| 流量控制精度 | 優(yōu)于±2% |
| 氣壓波動 | ≤±5% |
| 真空測定系統(tǒng) | 配備電控氣動真空閥和皮拉尼真空計，測量范圍：5×10 -2 ～1.0×10 5 Pa ，測量精度：1Pa |
| 真空泵 | 干式真空泵：80m3/h |
| 最大工作噪音 | ＜65dB（1m范圍內(nèi)） |
| 工作真空度 | 20-40PA |
| 抽真空時間（20PA） | ≤90s以內(nèi) |
| 極限真空 | ≤5Pa |
| 控制方式 | PLC+工控機 |
| 顯示屏 | 12英寸 |
| 等離子處理效果 | 清洗后水滴角<15°，同批次晶圓，任意晶圓的任意位置水滴角差≤±5°，批次間水滴角差≤±5°（8inch硅晶圓） |
| 電源供應 | AC380V,50/60Hz，三相五線100A |
| 外形尺寸 | 1200(W)×1200(D) ×1800(H) mm |
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等離子技術(shù)
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